ISBN 978-612-48813-6-7

Reseña

El objetivo del presente estudio fue la evaluación de tres técnicas de fotopolimerización con diodo emisor de luz en la resistencia compresiva de resina compuesta de nanopartículas. En la Metodología el estudio, es de nivel explicativo, de corte transversal y cuasi-experimental, en los materiales y métodos se elaboraron sesenta cilindros de resina compuesta de nanopartículas de la marca 3M™ Filtek™ Z350 XT de 4 mm de diámetro por 8 mm de altura, los cuales se dividieron en tres grupos de 20 cilindros de resina compuesta cada uno, en donde cada grupo fue fotopolimerizado con las tres diferentes técnicas por 20 segundos con lámpara de diodo emisor de luz marca Woodpecker modelo LED.D; el grupo 1 (N°=20) fue polimerizado con técnica de luz intensa, el grupo 2 (N°=20) con técnica de luz en rampa y finalmente el grupo 3 (N°=20) con técnica de luz intermitente. Posteriormente fueron sometidas a cargas en kilogramos en la máquina para ensayos Marshall MA-75, donde se midió la resistencia compresivade los cilindros de resina. Los resultados se constituyeron en tablas utilizando estadística descriptiva, además de las pruebas estadísticas se empleó la prueba de ANOVA en donde se obtuvo P = 0.000 lo que indicó que si existen diferencias estadísticamente significativas entre las medias de los valores de las técnicas de fotopolimerización. Como conclusión tenemos que se presenta diferencias estadísticas en la resistencia comprensiva de la resina de nanopartículas, al ser fotopolimerizada con las tres diferentes técnicas, obteniéndose que la resistencia comprensiva con técnica en rampa tuvo valores mayoresque la luz intensa y luz intermitente respectivamente.